Quelltext der Seite Arc-Enhanced Glow Discharge

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Als {{lang|en|'''Arc-Enhanced Glow Discharge'''}} ('''AEGD'''), deutsch: Bogengestützte [[Glimmentladung]], wird die Erzeugung eines [[Plasma (Physik)|Gasplasmas]] durch Nutzung der [[Elektron]]en einer [[Bogenentladung|Vakuumbogenentladung]] bezeichnet. Dazu werden die Elektronen der Vakuumbogenentladung zu einer positiv vorgespannten [[Elektrode]] beschleunigt. Die beschleunigten, hochenergetischen Elektronen regen die Gasatome (z.&nbsp;B. [[Argon|Ar]], [[Wasserstoff|H]]) oder Gasmoleküle (z.&nbsp;B. [[Stickstoff|N<sub>2</sub>]])<ref>J. Vetter, T. Wallendorf: ''Plasma diagnostics of arc-enhanced glow discharge''. Surface and Coatings Technology vol. 76-77 issue 1-3 November, 1995. p. 322-327</ref> an und ionisieren diese teilweise.<ref>J. Vetter, W. Burgmer, A. J. Perry: ''Arc- enhanced glow discharge in vacuum arc machines'', Surface&Coatings Technology, Volume 59, issue 1-3, (October 1, 1993), p. 152-155</ref> Die dadurch generierten Gasplasmen werden vorrangig für das [[Ionenreinigen]] und das [[Nitrieren]] vor der [[Physikalische Gasphasenabscheidung|PVD-Hartstoffbeschichtung]] sowie [[DLC-Beschichtung]] (eine DLC-Schicht ist eine [[Diamant|diamantähnliche]] [[Kohlenstoffschicht]]) eingesetzt.<ref>[http://www.plasmatec-pvd.com/Technologie.html Technologie] (Plasmatec GmbH)</ref> Die Plasmaerzeugung mittels des AEGD-Prozesses wird in PVD- und DLC-Beschichtungsanlagen, die mit [[Lichtbogenverdampfen|Lichtbogenverdampfern]] oder [[Sputtern|Magnetron-Sputterquellen]] (z.&nbsp;B. in Hybrid-PVD-Anlagen bestehend aus [[HiPIMS]]-Magnetrons plus Lichtbogenverdampfen) angewendet.<ref>{{Literatur|Titel=Domino Platform: PVD Coaters for Arc Evaporation and High Current Pulsed Magnetron Sputtering|Autor=J. Vetter, J. Müller und G. Erkens|DOI=10.1088/1757-899X/39/1/012004|Sammelwerk=IOP Conference Series: Materials Science and Engineering|Band=39|Nummer=012004}}</ref> Erfunden wurde das Prinzip von [[Jörg Vetter]] und Mitarbeitern.<ref>Patentschrift EP534066B1</ref><ref>Patentanmeldung US5294322A</ref>  Die AEGD-Systeme verschiedener technischer Realisierungen  werden sowohl in Forschungsanlagen als auch in Industrieanlagen verschiedener Hersteller zur Beschichtung von Substraten eingebaut.<ref>{{Internetquelle |url=https://www.researchgate.net/publication/287542133_Properties_of_DLC_coatings_deposited_by_DC_and_DC_with_superimposed_pulsed_vacuum_arc |titel=(PDF) Properties of DLC coatings deposited by DC and DC with superimposed pulsed vacuum arc |abruf=2019-08-27 |sprache=en}}</ref><ref>{{Internetquelle |autor= |url=https://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?action=pdf&docid=EP000002705522B1&xxxfull=1 |titel=EP2705522B1 |werk= |hrsg= |datum= |abruf=2019-08-27 |sprache=}}</ref><ref>{{Internetquelle |autor= |url=https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925963519302262 |titel=Microstructure and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc evaporation: Effect of pulsed current |werk= |hrsg= |datum= |abruf=2019-08-27 |sprache=}}</ref>

== Einzelnachweise ==
<references />

[[Kategorie:Plasmaphysik]]

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