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Als {{lang|en|'''Arc-Enhanced Glow Discharge'''}} ('''AEGD'''), deutsch: Bogengestützte [[Glimmentladung]], wird die Erzeugung eines [[Plasma (Physik)|Gasplasmas]] durch Nutzung der [[Elektron]]en einer [[Bogenentladung|Vakuumbogenentladung]] bezeichnet. Dazu werden die Elektronen der Vakuumbogenentladung zu einer positiv vorgespannten [[Elektrode]] beschleunigt. Die beschleunigten, hochenergetischen Elektronen regen die Gasatome (z. B. [[Argon|Ar]], [[Wasserstoff|H]]) oder Gasmoleküle (z. B. [[Stickstoff|N<sub>2</sub>]])<ref>J. Vetter, T. Wallendorf: ''Plasma diagnostics of arc-enhanced glow discharge''. Surface and Coatings Technology vol. 76-77 issue 1-3 November, 1995. p. 322-327</ref> an und ionisieren diese teilweise.<ref>J. Vetter, W. Burgmer, A. J. Perry: ''Arc- enhanced glow discharge in vacuum arc machines'', Surface&Coatings Technology, Volume 59, issue 1-3, (October 1, 1993), p. 152-155</ref> Die dadurch generierten Gasplasmen werden vorrangig für das [[Ionenreinigen]] und das [[Nitrieren]] vor der [[Physikalische Gasphasenabscheidung|PVD-Hartstoffbeschichtung]] sowie [[DLC-Beschichtung]] (eine DLC-Schicht ist eine [[Diamant|diamantähnliche]] [[Kohlenstoffschicht]]) eingesetzt.<ref>[http://www.plasmatec-pvd.com/Technologie.html Technologie] (Plasmatec GmbH)</ref> Die Plasmaerzeugung mittels des AEGD-Prozesses wird in PVD- und DLC-Beschichtungsanlagen, die mit [[Lichtbogenverdampfen|Lichtbogenverdampfern]] oder [[Sputtern|Magnetron-Sputterquellen]] (z.B. in Hybrid-PVD-Anlagen bestehend aus [[HiPIMS]]-Magnetrons plus Lichtbogenverdampfen) angewendet.<ref>{{Literatur|Titel=Domino Platform: PVD Coaters for Arc Evaporation and High Current Pulsed Magnetron Sputtering|Autor=J. Vetter, J. Müller und G. Erkens|DOI=10.1088/1757-899X/39/1/012004|Sammelwerk=IOP Conference Series: Materials Science and Engineering|Band=39|Nummer=012004}}</ref> Erfunden wurde das Prinzip von [[Jörg Vetter]] und Mitarbeitern.<ref>Patentschrift EP534066B1</ref><ref>Patentanmeldung US5294322A</ref> | Als {{lang|en|'''Arc-Enhanced Glow Discharge'''}} ('''AEGD'''), deutsch: Bogengestützte [[Glimmentladung]], wird die Erzeugung eines [[Plasma (Physik)|Gasplasmas]] durch Nutzung der [[Elektron]]en einer [[Bogenentladung|Vakuumbogenentladung]] bezeichnet. Dazu werden die Elektronen der Vakuumbogenentladung zu einer positiv vorgespannten [[Elektrode]] beschleunigt. Die beschleunigten, hochenergetischen Elektronen regen die Gasatome (z. B. [[Argon|Ar]], [[Wasserstoff|H]]) oder Gasmoleküle (z. B. [[Stickstoff|N<sub>2</sub>]])<ref>J. Vetter, T. Wallendorf: ''Plasma diagnostics of arc-enhanced glow discharge''. Surface and Coatings Technology vol. 76-77 issue 1-3 November, 1995. p. 322-327</ref> an und ionisieren diese teilweise.<ref>J. Vetter, W. Burgmer, A. J. Perry: ''Arc- enhanced glow discharge in vacuum arc machines'', Surface&Coatings Technology, Volume 59, issue 1-3, (October 1, 1993), p. 152-155</ref> Die dadurch generierten Gasplasmen werden vorrangig für das [[Ionenreinigen]] und das [[Nitrieren]] vor der [[Physikalische Gasphasenabscheidung|PVD-Hartstoffbeschichtung]] sowie [[DLC-Beschichtung]] (eine DLC-Schicht ist eine [[Diamant|diamantähnliche]] [[Kohlenstoffschicht]]) eingesetzt.<ref>[http://www.plasmatec-pvd.com/Technologie.html Technologie] (Plasmatec GmbH)</ref> Die Plasmaerzeugung mittels des AEGD-Prozesses wird in PVD- und DLC-Beschichtungsanlagen, die mit [[Lichtbogenverdampfen|Lichtbogenverdampfern]] oder [[Sputtern|Magnetron-Sputterquellen]] (z. B. in Hybrid-PVD-Anlagen bestehend aus [[HiPIMS]]-Magnetrons plus Lichtbogenverdampfen) angewendet.<ref>{{Literatur|Titel=Domino Platform: PVD Coaters for Arc Evaporation and High Current Pulsed Magnetron Sputtering|Autor=J. Vetter, J. Müller und G. Erkens|DOI=10.1088/1757-899X/39/1/012004|Sammelwerk=IOP Conference Series: Materials Science and Engineering|Band=39|Nummer=012004}}</ref> Erfunden wurde das Prinzip von [[Jörg Vetter]] und Mitarbeitern.<ref>Patentschrift EP534066B1</ref><ref>Patentanmeldung US5294322A</ref> Die AEGD-Systeme verschiedener technischer Realisierungen werden sowohl in Forschungsanlagen als auch in Industrieanlagen verschiedener Hersteller zur Beschichtung von Substraten eingebaut.<ref>{{Internetquelle |url=https://www.researchgate.net/publication/287542133_Properties_of_DLC_coatings_deposited_by_DC_and_DC_with_superimposed_pulsed_vacuum_arc |titel=(PDF) Properties of DLC coatings deposited by DC and DC with superimposed pulsed vacuum arc |abruf=2019-08-27 |sprache=en}}</ref><ref>{{Internetquelle |autor= |url=https://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?action=pdf&docid=EP000002705522B1&xxxfull=1 |titel=EP2705522B1 |werk= |hrsg= |datum= |abruf=2019-08-27 |sprache=}}</ref><ref>{{Internetquelle |autor= |url=https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0925963519302262 |titel=Microstructure and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc evaporation: Effect of pulsed current |werk= |hrsg= |datum= |abruf=2019-08-27 |sprache=}}</ref> | ||
== Einzelnachweise == | == Einzelnachweise == |
Als {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:149: attempt to index field 'data' (a nil value) (AEGD), deutsch: Bogengestützte Glimmentladung, wird die Erzeugung eines Gasplasmas durch Nutzung der Elektronen einer Vakuumbogenentladung bezeichnet. Dazu werden die Elektronen der Vakuumbogenentladung zu einer positiv vorgespannten Elektrode beschleunigt. Die beschleunigten, hochenergetischen Elektronen regen die Gasatome (z. B. Ar, H) oder Gasmoleküle (z. B. N2)[1] an und ionisieren diese teilweise.[2] Die dadurch generierten Gasplasmen werden vorrangig für das Ionenreinigen und das Nitrieren vor der PVD-Hartstoffbeschichtung sowie DLC-Beschichtung (eine DLC-Schicht ist eine diamantähnliche Kohlenstoffschicht) eingesetzt.[3] Die Plasmaerzeugung mittels des AEGD-Prozesses wird in PVD- und DLC-Beschichtungsanlagen, die mit Lichtbogenverdampfern oder Magnetron-Sputterquellen (z. B. in Hybrid-PVD-Anlagen bestehend aus HiPIMS-Magnetrons plus Lichtbogenverdampfen) angewendet.[4] Erfunden wurde das Prinzip von Jörg Vetter und Mitarbeitern.[5][6] Die AEGD-Systeme verschiedener technischer Realisierungen werden sowohl in Forschungsanlagen als auch in Industrieanlagen verschiedener Hersteller zur Beschichtung von Substraten eingebaut.[7][8][9]