Arc-Enhanced Glow Discharge

Arc-Enhanced Glow Discharge

Version vom 27. August 2019, 12:47 Uhr von imported>Fotodancer
(Unterschied) ← Nächstältere Version | Aktuelle Version (Unterschied) | Nächstjüngere Version → (Unterschied)

Als {{Modul:Vorlage:lang}} Modul:Multilingual:149: attempt to index field 'data' (a nil value) (AEGD), deutsch: Bogengestützte Glimmentladung, wird die Erzeugung eines Gasplasmas durch Nutzung der Elektronen einer Vakuumbogenentladung bezeichnet. Dazu werden die Elektronen der Vakuumbogenentladung zu einer positiv vorgespannten Elektrode beschleunigt. Die beschleunigten, hochenergetischen Elektronen regen die Gasatome (z. B. Ar, H) oder Gasmoleküle (z. B. N2)[1] an und ionisieren diese teilweise.[2] Die dadurch generierten Gasplasmen werden vorrangig für das Ionenreinigen und das Nitrieren vor der PVD-Hartstoffbeschichtung sowie DLC-Beschichtung (eine DLC-Schicht ist eine diamantähnliche Kohlenstoffschicht) eingesetzt.[3] Die Plasmaerzeugung mittels des AEGD-Prozesses wird in PVD- und DLC-Beschichtungsanlagen, die mit Lichtbogenverdampfern oder Magnetron-Sputterquellen (z. B. in Hybrid-PVD-Anlagen bestehend aus HiPIMS-Magnetrons plus Lichtbogenverdampfen) angewendet.[4] Erfunden wurde das Prinzip von Jörg Vetter und Mitarbeitern.[5][6] Die AEGD-Systeme verschiedener technischer Realisierungen werden sowohl in Forschungsanlagen als auch in Industrieanlagen verschiedener Hersteller zur Beschichtung von Substraten eingebaut.[7][8][9]

Einzelnachweise

  1. J. Vetter, T. Wallendorf: Plasma diagnostics of arc-enhanced glow discharge. Surface and Coatings Technology vol. 76-77 issue 1-3 November, 1995. p. 322-327
  2. J. Vetter, W. Burgmer, A. J. Perry: Arc- enhanced glow discharge in vacuum arc machines, Surface&Coatings Technology, Volume 59, issue 1-3, (October 1, 1993), p. 152-155
  3. Technologie (Plasmatec GmbH)
  4. J. Vetter, J. Müller und G. Erkens: Domino Platform: PVD Coaters for Arc Evaporation and High Current Pulsed Magnetron Sputtering. In: IOP Conference Series: Materials Science and Engineering. Band 39, Nr. 012004, doi:10.1088/1757-899X/39/1/012004.
  5. Patentschrift EP534066B1
  6. Patentanmeldung US5294322A
  7. (PDF) Properties of DLC coatings deposited by DC and DC with superimposed pulsed vacuum arc. Abgerufen am 27. August 2019 (Lua-Fehler in Modul:Multilingual, Zeile 149: attempt to index field 'data' (a nil value)).
  8. EP2705522B1. Abgerufen am 27. August 2019.
  9. Microstructure and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc evaporation: Effect of pulsed current. Abgerufen am 27. August 2019.