Eigenleitungsdichte: Unterschied zwischen den Versionen

Eigenleitungsdichte: Unterschied zwischen den Versionen

imported>ToBeFree
 
imported>Saure
 
Zeile 1: Zeile 1:
Die '''Eigenleitungsdichte''' <math>n_\mathrm{i}</math> (auch '''[[intrinsisch]]e Ladungsträgerdichte''') ist die charakteristische [[Ladungsträgerdichte]] eines Stoffes in Abhängigkeit von der [[Temperatur]]
Die '''Eigenleitungsdichte''' (auch '''[[intrinsisch]]e Ladungsträgerdichte''') ist die charakterisierende Materialeigenschaft eines [[Halbleiter]]s in Blick auf seine [[elektrische Leitfähigkeit]]. Sie bezeichnet die [[Ladungsträgerdichte]] eines idealen, in seinem [[Kristallgitter]] ungestörten Halbleiters. Der zugehörige Leitungsmechanismus wird [[Eigenleitung]] genannt.


:<math>n_\mathrm{i} = f(T)</math>
Die Eigenleitungsdichte bestimmt den ''Mindestwert'' der elektrischen Leitfähigkeit. Die tatsächliche Leitfähigkeit des Halbleiters kann durch Verunreinigung höher liegen oder durch [[Dotierung]] auf einen höheren Wert eingestellt werden. Die dadurch verursachte [[Störstellenleitung]] übersteigt bei [[Raumtemperatur]] die Eigenleitung in der Regel um mehrere Größenordnungen; sie überdeckt damit die Eigenschaft des Basismaterials.


Da sie die [[elektrische Leitfähigkeit|Leitfähigkeit]] bestimmt, ist sie besonders bei der Auswahl von Materialien für [[Halbleiter]][[Elektrisches Bauelement|bauelemente]] von Interesse, man spricht in dem Zusammenhang auch von der [[Eigenleitung]] als Leitungsmechanismus.
== Physikalische Beschreibung ==
Bei Halbleitern sind am [[Absoluter Nullpunkt|absoluten Nullpunkt]] sämtliche [[Elektron]]en an den [[Kristall]][[atom]]en gebunden. Erst mit steigender Temperatur steht eine ausreichende [[thermische Energie]] zur Verfügung, um einzelne Elektronen auf das Energieniveau des [[Leitungsband]]es anzuheben. Die frei gewordenen Elektronen und die zurückbleibenden [[Defektelektron]]en&nbsp;(''Löcher'') stehen zum [[Elektrischer Strom|Ladungstransport]] zur Verfügung (Generation von [[Elektron-Loch-Paar]]en); diesem Effekt entgegengerichtet ist die [[Rekombination (Physik)|Rekombination]] von Elektron-Loch-Paaren unter Freiwerdung von [[Energie]].


== Physikalische Beschreibung ==
Im [[Thermodynamisches Gleichgewicht|thermodynamischen Gleichgewicht]] stellt sich ein Gleichgewicht aus Generation und Rekombination ein: Die Anzahldichte an frei beweglichen [[Ladungsträger (Physik)|Ladungsträgern]] ist im zeitlichen Mittel konstant. Die Eigenleitungsdichte <math>n_\mathrm i</math> setzt sich somit zusammen aus der durchschnittlichen Anzahldichte an freien Elektronen <math>n</math> und Löchern <math>p</math> bei der jeweiligen Temperatur:
{| class="wikitable float-right"  
 
|+ Eigenleitungsdichte für einige wichtige Halbleiter bei ''T''&nbsp;=&nbsp;300&nbsp;K
{| class="wikitable float-right"
|+ Eigenleitungsdichte für einige wichtige Halbleiter bei <math>T=300\;\mathrm K</math>
|- class="hintergrundfarbe6"
|- class="hintergrundfarbe6"
!Halbleiter
!Halbleiter
!''n''<sub>i</sub> in cm<sup>−3</sup>
!<math>n_\mathrm i</math> in cm<sup>−3</sup>
|-
|-
|[[Germanium]] (Ge)<ref>Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: ''Germanium (Ge), intrinsic carrier concentration.'' In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (ed.): ''SpringerMaterials - The Landolt-Börnstein Database.'' {{DOI|10.1007/10832182_503}}.</ref>
|[[Germanium]] (Ge)
|2,33 × 10<sup>13</sup>
|{{ZahlExp|2,33|13}}<ref>Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: ''Germanium (Ge), intrinsic carrier concentration.'' In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (Hrsg.): ''SpringerMaterials The Landolt-Börnstein Database.'' {{DOI|10.1007/10832182_503}}.</ref><br />{{ZahlExp|2,3|13}}<ref name="Stiny" />
|-
|-
|[[Silizium]] (Si)<ref>Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: ''Silicon (Si), intrinsic carrier concentration.'' In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (ed.): ''SpringerMaterials - The Landolt-Börnstein Database.'' {{DOI|10.1007/10832182_455}}.</ref>
|[[Silizium]] (Si)
|1,5 × 10<sup>10</sup>
|{{ZahlExp|1,0|10}}<ref>Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: ''Silicon (Si), intrinsic carrier concentration.'' In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (Hrsg.): ''SpringerMaterials The Landolt-Börnstein Database.'' {{DOI|10.1007/10832182_455}}.</ref><ref>{{Literatur |Autor=Pietro P. Altermatt, Andreas Schenk, Frank Geelhaar, Gernot Heiser |Titel=Reassessment of the intrinsic carrier density in crystalline silicon in view of band-gap narrowing |Sammelwerk=Journal of Applied Physics |Band=93 |Nummer=3 |Datum=2003-02 |ISSN=0021-8979 |Seiten=1598–1604 |DOI=10.1063/1.1529297}}</ref><br />{{ZahlExp|1,5|10}}<ref name="Stiny" />
|-
|-
|[[Galliumarsenid]] (GaAs)<ref>Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: ''Gallium arsenide (GaAs), intrinsic carrier concentration.'' In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (ed.): ''SpringerMaterials - The Landolt-Börnstein Database.'' {{DOI|10.1007/10832182_196}}.</ref>
|[[Galliumarsenid]] (GaAs)
|2,1 × 10<sup>6</sup>
|{{ZahlExp|2,1|6}}<ref>Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: ''Gallium arsenide (GaAs), intrinsic carrier concentration.'' In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (Hrsg.): ''SpringerMaterials The Landolt-Börnstein Database.'' {{DOI|10.1007/10832182_196}}.</ref><br />{{ZahlExp|1,3|6}}<ref name="Stiny" />
|}
|}
Bei [[Halbleiter]]n sind im [[Absoluter Nullpunkt|absoluten Nullpunkt]] sämtliche [[Elektron]]en an den [[Kristall]][[atom]]en gebunden. Erst ab einer bestimmten Temperatur steht eine ausreichende [[thermische Energie]] zur Verfügung, um Elektronen in das [[Leitungsband]] anzuheben. Die frei gewordenen Elektronen und die zurückbleibenden [[Defektelektron]]en&nbsp;(''Löcher'') stehen zum [[elektrischer Strom|Ladungstransport]] zur Verfügung (Generation von [[Elektron-Loch-Paar]]en); diesem Effekt entgegengerichtet ist die [[Rekombination (Physik)|Rekombination]] von Elektron-Loch-Paaren unter Freiwerdung von [[Energie]].
Im [[thermodynamisches Gleichgewicht|thermodynamischen Gleichgewicht]] stellt sich ein Gleichgewicht aus Generation und Rekombination ein: die Anzahl an frei beweglichen [[Ladungsträger (Physik)|Ladungsträgern]] ist im zeitlichen Mittel konstant. Die Eigenleitungsdichte setzt sich somit zusammen aus der durchschnittlichen Anzahl an freien Elektronen <math>n</math> und Löchern <math>p</math> bei einer bestimmten Temperatur:
:<math>n_\mathrm{i}^2 = n \cdot p</math> ([[Massenwirkungsgesetz]])
:<math>n_\mathrm{i}^2 = n \cdot p</math> ([[Massenwirkungsgesetz]])
[[Datei:Eigenleitungsdichte Si.png|mini|[[Arrheniusgraph]] für die Eigen&shy;leitungs&shy;dichte von Silizium in Abhängigkeit von der Temperatur gemäß der angegebenen Gleichung]]
Für schwach dotiertes Material kann anstatt der [[Fermi-Verteilung]] die [[Boltzmann-Verteilung]] angewendet werden,<ref name="Eichler" /> dann ergeben sich die Ladungsträgerdichten zu:
::<math>n = N_\mathrm L \cdot \exp \left( -\frac{E_\mathrm L - \mu}{k_{\mathrm{B}} \,T} \right)</math>
::<math>p = N_\mathrm V \cdot \exp \left( +\frac{E_\mathrm V - \mu}{k_{\mathrm{B}} \,T} \right)</math>
mit
mit
* ''n'': [[Elektronendichte]]
* <math>n</math> :&nbsp; [[Elektronendichte]]
* ''p'': Löcherdichte.
* <math>p</math> :&nbsp; Löcherdichte
 
* <math>N_\mathrm L</math>, <math>N_\mathrm V</math>: effektive [[Zustandsdichte]] in [[Leitungsband|Leitungs-]] und [[Valenzband]]
=== für schwach dotierte Systeme ===
* <math>E_\mathrm L</math>: Energie der Unterkante Leitungsband
Für schwach [[Dotierung|dotierte]] Systeme kann man anstatt der [[Fermi-Verteilung]] die [[Boltzmann-Verteilung]] anwenden, dann ergeben sich die Ladungsträgerdichten zu:
* <math>E_\mathrm V</math>: Energie der Oberkante Valenzband
 
* <math>E_\mathrm L - E_\mathrm V =E_\mathrm g</math>: [[Bandlücke]]
::<math>n = N_{\mathrm{c}} \cdot \exp \left( -\frac{E_{\mathrm{c}} - \mu}{k_{\mathrm{B}} \cdot T} \right)</math>
* <math>\mu</math> :&nbsp; [[chemisches Potential]]
::<math>p = N_{\mathrm{v}} \cdot \exp \left( +\frac{E_{\mathrm{v}} - \mu}{k_{\mathrm{B}} \cdot T} \right)</math>
* <math>k_\mathrm B</math>: [[Boltzmannkonstante]]
mit
* <math>T</math> :&nbsp; absolute Temperatur
* ''N''<sub>c</sub>, ''N''<sub>v</sub>: effektive [[Zustandsdichte]] in [[Leitungsband|Leitungs-]] und [[Valenzband]] (c für engl. ''conduction'' / dt.: ''Leitung'')
* ''E''<sub>c</sub>: Energie der Unterkante Leitungsband
* ''E''<sub>v</sub>: Energie der Oberkante Valenzband
* ''μ'': [[chemisches Potential]]
* ''k''<sub>B</sub>: [[Boltzmannkonstante]]
* ''T'': Temperatur.


Somit ergibt sich die Eigenleitungsdichte:
Somit ergibt sich die Eigenleitungsdichte:
:<math>\begin{align}
:<math>\begin{align}
\Rightarrow n_\mathrm{i}^{2}
n_\mathrm i
& = n \cdot p\\
& = \sqrt{n \cdot p{\color{White}|}}\\
& = N_{\mathrm{c}} \cdot N_{\mathrm{v}} \cdot \exp \left( -\frac{E_{\mathrm{c}} - E_{v}}{k_{\mathrm{B}} \cdot T} \right)\\
& = \sqrt{N_\mathrm L \,N_\mathrm V} \cdot \exp \left( -\frac{E_\mathrm L - E_\mathrm V}{2\,k_\mathrm B\,T} \right)\\
& = N_{\mathrm{c}} \cdot N_{\mathrm{v}} \cdot \exp \left( -\frac{E_{\mathrm{g}}}        {k_{\mathrm{B}} \cdot T} \right)
& = \sqrt{N_\mathrm L \,N_\mathrm V} \cdot \exp \left( -\frac{E_\mathrm g}{2\,k_\mathrm B\,T}\right)\\
\end{align}</math>
\end{align}</math>
 
Dieses Ergebnis ist erheblich von der [[Temperatur]] abhängig. Das zugehörige Diagramm berücksichtigt nicht, dass <math>N_\mathrm L</math>, <math>N_\mathrm V</math> und <math>E_\mathrm g</math> ebenfalls von der Temperatur abhängen, allerdings nicht so ausgeprägt. Im Bereich der Raumtemperatur verdoppelt sich <math>n_\mathrm i</math> so etwa, wenn sich die Temperatur um 10&nbsp;K erhöht.<ref>Wolfgang Böge, Wilfried Plaßmann (Hrsg.): ''Vieweg Handbuch Elektrotechnik: Grundlagen und Anwendungen für Elektrotechniker.'' 3. Auflage. Vieweg, 2004, S. 320.</ref>
mit
* <math>E_\mathrm{g} = E_\mathrm{c} - E_\mathrm{v}</math>: Energie der [[Bandlücke]].


== Zustand in realen Kristallen ==
== Zustand in realen Kristallen ==
Es ist zu beachten, dass es keinen perfekten Kristall gibt ([[Entropie (Thermodynamik)|Entropie]]<nowiki/>argument der [[Thermodynamik]]). In realen Kristallen beträgt die intrinsische [[Störstelle]]n<nowiki/>konzentration ca. 5·10<sup>13</sup>&nbsp;cm<sup>−3</sup>, d.&nbsp;h. jedes milliardste Atom gehört zu einem anderen [[chemisches Element|Element]]; durch [[extrinsisch]]e Störstellen ([[Dotierung]]) lässt sich die Ladungsträgerdichte und damit die Leitfähigkeit weiter steigern.  
Es ist zu beachten, dass es keinen perfekten Kristall gibt ([[Entropie (Thermodynamik)|Entropie]]<nowiki />argument der [[Thermodynamik]]).
Bei einer Atomdichte von etwa {{ZahlExp|5|22}}&nbsp;cm<sup>−3</sup> (Richtwert für Silizium und Germanium)<ref name="Eichler">Jürgen Eichler: ''Physik: Grundlagen für das Ingenieurstudium.'' 2. Auflage. Vieweg, 2004, S. 273 f.</ref> würde eine [[Störstelle]]n<nowiki />dichte von {{ZahlExp|5|13}}&nbsp;cm<sup>−3</sup> bedeuten, dass auf eine Milliarde Atome des Halbleiters eine einzige Störung im Kristallgitter kommt. Aber selbst ein derartig an Störstellen armer Kristall ist für den Zustand der Eigenleitung noch nicht arm genug. Umgekehrt lässt sich durch [[extrinsisch]]e Störstellen (Dotierung) die Ladungsträgerdichte und damit die Leitfähigkeit steigern. Die typische Dichte der eingebrachten Fremdatome liegt bei 10<sup>14</sup>−10<sup>18</sup>&nbsp;cm<sup>−3</sup>.<ref>H. Hartl, E. Krasser, W. Pribyl, P. Söser, G. Winkler: ''Elektronische Schaltungstechnik.'' Pearson, 2008, S. 104.</ref>


Da der [[Ionisation]]s<nowiki/>grad der Störstellen von der Temperatur abhängt, nimmt die Ladungsträgerdichte zunächst mit der Temperatur zu ([[Störstellenreserve]]). Bei [[Raumtemperatur]] sind (bei [[Silizium]]) normalerweise alle Störstellen ionisiert ([[Störstellenerschöpfung]]), und die Ladungsträgerdichte hängt nicht mehr von der Temperatur, sondern von der Dotierkonzentration ab; dieser Fall wird als extrinsisch bezeichnet.
Da der [[Ionisation]]s<nowiki />grad der Störstellen mit der Temperatur steigt, nimmt die Ladungsträgerdichte zunächst mit der Temperatur zu ([[Störstellenreserve]]). Bei [[Raumtemperatur]] sind (bei Silizium) normalerweise alle Störstellen ionisiert ([[Störstellenerschöpfung]]), und die Ladungsträgerdichte hängt nicht mehr von der Temperatur, sondern von der Dotierkonzentration ab;<ref>Helmut Lindner: ''Grundriss der Festkörperphysik.'' Vieweg, 1979, S. 111.</ref> dieser Fall wird als [[extrinsische Leitfähigkeit]] bezeichnet.


Erhöht man die Temperatur weiter, verliert der Halbleiter seinen Charakter als n-dotiert oder p-dotiert, da zunehmend mehr Ladungsträger durch die intrinsische Ladungsträgergeneration generiert werden. Das Halbleitermaterial wird wieder intrinsisch, weil die [[thermische Energie]] nun ausreicht, Elektronen vom Valenzband ins Leitungsband anzuregen. Bei Silizium-Halbleiterbauelementen wird deshalb oft eine maximale [[Betriebstemperatur]] von 125&nbsp;°C angegeben.
Wird die Temperatur weiter erhöht, verliert der Halbleiter seinen Charakter als n-dotiert oder p-dotiert, da zunehmend mehr Ladungsträger durch die intrinsische Ladungsträgergeneration erzeugt werden. Das Halbleitermaterial wird [[Intrinsische Leitfähigkeit|intrinsisch leitend]], weil die [[thermische Energie]] nun ausreicht, in größerem Umfang Elektronen vom Valenzband ins Leitungsband anzuregen. Der praktische Einsatz dotierter Halbleiter-Bauelemente reicht deshalb für Germanium nur bis 70&nbsp;°C und für Silizium bis etwa 170&nbsp;°C<ref>Leonhard Stiny: ''Aktive elektronische Bauelemente.'' 4. Auflage. Springer Vieweg, 2019, S. 37.</ref> oder in einem Temperaturbereich typisch −40&nbsp;°C&nbsp;<&nbsp;<math>\vartheta</math>&nbsp;<&nbsp;160&nbsp;°C.<ref>Joachim Specovius: ''Grundkurs Leistungselektronik: Bauelemente, Schaltungen und Systeme.'' 3. Auflage. Vieweg+Teubner, 2009, S. 7.</ref> Eine Rechnung für die Eigenleitungsdichte von Silizium bei 700&nbsp;K kommt auf {{ZahlExp|6,3|15}}&nbsp;cm<sup>−3</sup>.<ref name="Stiny">Leonhard Stiny: ''Aktive elektronische Bauelemente.'' 4. Auflage. Springer Vieweg, 2019, S. 28–30.</ref>


== Einzelnachweise ==
== Einzelnachweise ==
<references/>
<references />


[[Kategorie:Festkörperphysik]]
[[Kategorie:Festkörperphysik]]

Aktuelle Version vom 17. Juli 2020, 15:20 Uhr

Die Eigenleitungsdichte (auch intrinsische Ladungsträgerdichte) ist die charakterisierende Materialeigenschaft eines Halbleiters in Blick auf seine elektrische Leitfähigkeit. Sie bezeichnet die Ladungsträgerdichte eines idealen, in seinem Kristallgitter ungestörten Halbleiters. Der zugehörige Leitungsmechanismus wird Eigenleitung genannt.

Die Eigenleitungsdichte bestimmt den Mindestwert der elektrischen Leitfähigkeit. Die tatsächliche Leitfähigkeit des Halbleiters kann durch Verunreinigung höher liegen oder durch Dotierung auf einen höheren Wert eingestellt werden. Die dadurch verursachte Störstellenleitung übersteigt bei Raumtemperatur die Eigenleitung in der Regel um mehrere Größenordnungen; sie überdeckt damit die Eigenschaft des Basismaterials.

Physikalische Beschreibung

Bei Halbleitern sind am absoluten Nullpunkt sämtliche Elektronen an den Kristallatomen gebunden. Erst mit steigender Temperatur steht eine ausreichende thermische Energie zur Verfügung, um einzelne Elektronen auf das Energieniveau des Leitungsbandes anzuheben. Die frei gewordenen Elektronen und die zurückbleibenden Defektelektronen (Löcher) stehen zum Ladungstransport zur Verfügung (Generation von Elektron-Loch-Paaren); diesem Effekt entgegengerichtet ist die Rekombination von Elektron-Loch-Paaren unter Freiwerdung von Energie.

Im thermodynamischen Gleichgewicht stellt sich ein Gleichgewicht aus Generation und Rekombination ein: Die Anzahldichte an frei beweglichen Ladungsträgern ist im zeitlichen Mittel konstant. Die Eigenleitungsdichte $ n_{\mathrm {i} } $ setzt sich somit zusammen aus der durchschnittlichen Anzahldichte an freien Elektronen $ n $ und Löchern $ p $ bei der jeweiligen Temperatur:

Eigenleitungsdichte für einige wichtige Halbleiter bei $ T=300\;\mathrm {K} $
Halbleiter $ n_{\mathrm {i} } $ in cm−3
Germanium (Ge) 2.33e13[1]
2.3e13[2]
Silizium (Si) 1.0e10[3][4]
1.5e10[2]
Galliumarsenid (GaAs) 2.1e6[5]
1.3e6[2]
$ n_{\mathrm {i} }^{2}=n\cdot p $ (Massenwirkungsgesetz)
Arrheniusgraph für die Eigen­leitungs­dichte von Silizium in Abhängigkeit von der Temperatur gemäß der angegebenen Gleichung

Für schwach dotiertes Material kann anstatt der Fermi-Verteilung die Boltzmann-Verteilung angewendet werden,[6] dann ergeben sich die Ladungsträgerdichten zu:

$ n=N_{\mathrm {L} }\cdot \exp \left(-{\frac {E_{\mathrm {L} }-\mu }{k_{\mathrm {B} }\,T}}\right) $
$ p=N_{\mathrm {V} }\cdot \exp \left(+{\frac {E_{\mathrm {V} }-\mu }{k_{\mathrm {B} }\,T}}\right) $

mit

  • $ n $ :  Elektronendichte
  • $ p $ :  Löcherdichte
  • $ N_{\mathrm {L} } $, $ N_{\mathrm {V} } $: effektive Zustandsdichte in Leitungs- und Valenzband
  • $ E_{\mathrm {L} } $: Energie der Unterkante Leitungsband
  • $ E_{\mathrm {V} } $: Energie der Oberkante Valenzband
  • $ E_{\mathrm {L} }-E_{\mathrm {V} }=E_{\mathrm {g} } $: Bandlücke
  • $ \mu $ :  chemisches Potential
  • $ k_{\mathrm {B} } $: Boltzmannkonstante
  • $ T $ :  absolute Temperatur

Somit ergibt sich die Eigenleitungsdichte:

$ {\begin{aligned}n_{\mathrm {i} }&={\sqrt {n\cdot p{\color {White}|}}}\\&={\sqrt {N_{\mathrm {L} }\,N_{\mathrm {V} }}}\cdot \exp \left(-{\frac {E_{\mathrm {L} }-E_{\mathrm {V} }}{2\,k_{\mathrm {B} }\,T}}\right)\\&={\sqrt {N_{\mathrm {L} }\,N_{\mathrm {V} }}}\cdot \exp \left(-{\frac {E_{\mathrm {g} }}{2\,k_{\mathrm {B} }\,T}}\right)\\\end{aligned}} $

Dieses Ergebnis ist erheblich von der Temperatur abhängig. Das zugehörige Diagramm berücksichtigt nicht, dass $ N_{\mathrm {L} } $, $ N_{\mathrm {V} } $ und $ E_{\mathrm {g} } $ ebenfalls von der Temperatur abhängen, allerdings nicht so ausgeprägt. Im Bereich der Raumtemperatur verdoppelt sich $ n_{\mathrm {i} } $ so etwa, wenn sich die Temperatur um 10 K erhöht.[7]

Zustand in realen Kristallen

Es ist zu beachten, dass es keinen perfekten Kristall gibt (Entropieargument der Thermodynamik). Bei einer Atomdichte von etwa 5e22 cm−3 (Richtwert für Silizium und Germanium)[6] würde eine Störstellendichte von 5e13 cm−3 bedeuten, dass auf eine Milliarde Atome des Halbleiters eine einzige Störung im Kristallgitter kommt. Aber selbst ein derartig an Störstellen armer Kristall ist für den Zustand der Eigenleitung noch nicht arm genug. Umgekehrt lässt sich durch extrinsische Störstellen (Dotierung) die Ladungsträgerdichte und damit die Leitfähigkeit steigern. Die typische Dichte der eingebrachten Fremdatome liegt bei 1014−1018 cm−3.[8]

Da der Ionisationsgrad der Störstellen mit der Temperatur steigt, nimmt die Ladungsträgerdichte zunächst mit der Temperatur zu (Störstellenreserve). Bei Raumtemperatur sind (bei Silizium) normalerweise alle Störstellen ionisiert (Störstellenerschöpfung), und die Ladungsträgerdichte hängt nicht mehr von der Temperatur, sondern von der Dotierkonzentration ab;[9] dieser Fall wird als extrinsische Leitfähigkeit bezeichnet.

Wird die Temperatur weiter erhöht, verliert der Halbleiter seinen Charakter als n-dotiert oder p-dotiert, da zunehmend mehr Ladungsträger durch die intrinsische Ladungsträgergeneration erzeugt werden. Das Halbleitermaterial wird intrinsisch leitend, weil die thermische Energie nun ausreicht, in größerem Umfang Elektronen vom Valenzband ins Leitungsband anzuregen. Der praktische Einsatz dotierter Halbleiter-Bauelemente reicht deshalb für Germanium nur bis 70 °C und für Silizium bis etwa 170 °C[10] oder in einem Temperaturbereich typisch −40 °C < $ \vartheta $ < 160 °C.[11] Eine Rechnung für die Eigenleitungsdichte von Silizium bei 700 K kommt auf 6.3e15 cm−3.[2]

Einzelnachweise

  1. Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: Germanium (Ge), intrinsic carrier concentration. In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (Hrsg.): SpringerMaterials – The Landolt-Börnstein Database. doi:10.1007/10832182_503.
  2. 2,0 2,1 2,2 2,3 Leonhard Stiny: Aktive elektronische Bauelemente. 4. Auflage. Springer Vieweg, 2019, S. 28–30.
  3. Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: Silicon (Si), intrinsic carrier concentration. In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (Hrsg.): SpringerMaterials – The Landolt-Börnstein Database. doi:10.1007/10832182_455.
  4. Pietro P. Altermatt, Andreas Schenk, Frank Geelhaar, Gernot Heiser: Reassessment of the intrinsic carrier density in crystalline silicon in view of band-gap narrowing. In: Journal of Applied Physics. Band 93, Nr. 3, Februar 2003, ISSN 0021-8979, S. 1598–1604, doi:10.1063/1.1529297.
  5. Collaboration: Authors and Editors of the LB Volumes III/17A-22A-41A1b: Gallium arsenide (GaAs), intrinsic carrier concentration. In: O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (Hrsg.): SpringerMaterials – The Landolt-Börnstein Database. doi:10.1007/10832182_196.
  6. 6,0 6,1 Jürgen Eichler: Physik: Grundlagen für das Ingenieurstudium. 2. Auflage. Vieweg, 2004, S. 273 f.
  7. Wolfgang Böge, Wilfried Plaßmann (Hrsg.): Vieweg Handbuch Elektrotechnik: Grundlagen und Anwendungen für Elektrotechniker. 3. Auflage. Vieweg, 2004, S. 320.
  8. H. Hartl, E. Krasser, W. Pribyl, P. Söser, G. Winkler: Elektronische Schaltungstechnik. Pearson, 2008, S. 104.
  9. Helmut Lindner: Grundriss der Festkörperphysik. Vieweg, 1979, S. 111.
  10. Leonhard Stiny: Aktive elektronische Bauelemente. 4. Auflage. Springer Vieweg, 2019, S. 37.
  11. Joachim Specovius: Grundkurs Leistungselektronik: Bauelemente, Schaltungen und Systeme. 3. Auflage. Vieweg+Teubner, 2009, S. 7.